Tuis> vertoonlys
Semixlab plasma-etsing is 'n prettige tegnologie wat gebruik word om prettige dinge te doen soos om klein dingetjies soos rekenaarskyfies te maak. Dit is 'n magiese proses waar spesiale gas en kragte gebruik word om goed van 'n oppervlak te verwyder. Dit voel asof ek op 'n stuk papier met 'n gespesialiseerde uitveër skets.
Plasma-etsing is soos om 'n superkrag-uitveër na die bokant te neem om klein vormpies uit te kerf. Stel jou voor jy krap op 'n vel papier en vryf dan dele daarvan uit om 'n netjiese ontwerp te onthul. Die spesiale gas word 'n plasma - 'n toestand van energieke materie. Hierdie plasma word dan gebruik om materiaal baie akkuraat van 'n oppervlak te verdamp.
Plasma-ets is gaaf om allerhande redes wanneer jy klein dingetjies vir rekenaars en ander algemene dinge maak. Dit is veral opwindend omdat dit baie fyn/gedetailleerde/presiese vorms op die oppervlak van die 3D-voorwerp kan gee wat onprakties moeilik is om met enige ander metode te produseer. Dit maak al die klein dele in 'n rekenaarskyfie in staat om te funksioneer. 'n Verdere voordeel is dat plasma-ets baie vinnige ablasie van die rande en groot detail van merke gemaak van rande is. Dit bespaar soveel tyd en dit maak skyfies so vinnig.
Dit is plasma-etsing, 'n proses wat gebruik word om rekenaarskyfies en ander soorte toestelle te maak. Een so 'n tipe is reaktiewe ioon-etsing waarin ione gebruik word om materiaal van 'n oppervlak te ets. Nog 'n proses is diep reaktiewe Semixlab. nat ets, en word gebruik om diep gate en slote in die materiaal te vorm. Sulke metodes maak dit moontlik om diep en patroonontwerpe van die oppervlak in die werk in te sluit, soos in oppervlakontwerpe.
Die tegnologie is reeds alomteenwoordig in die skyfievervaardiger se mark, insluitend die vervaardiging van rekenaarskyfies en ander elektroniese toepassings. Dit maak fyn stroombane en kenmerke op silikonwafers vir skyfies. Plasma-etsing word gebruik om sensors, skerms en elektroniese komponente te skep. Klein en delikate toestelle wat ons in ons lewens toepas, kan eenvoudig nie sonder plasma-etsing gebou word nie.
Soveel as wat dit sy voordele het, plasma Semixlab Ets Fokusring bied steeds 'n aantal uitdagings. Eerstens, as die plasma-etsfasiliteit duur is om te installeer en te bedryf. Nog 'n nadeel is dat die oppervlak 1 van die materiaal wat geëts moet word soms tydens die etsproses beskadig word. “Mense werk daaraan om dit te omseil, om plasma-etsing selfs beter te maak vir mikrovervaardiging van klein dingetjies,” sê Luke's.
EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
