ArF fotoresistmateriaal vir fotolitografie

Semixlab Fotoresist Materiaal

Fotoresist verwys na 'n etsbestande dunfilmmateriaal waarvan die oplosbaarheid verander onder die bestraling of straling van ultravioletlig, elektronstraal, ioonstraal, X-straal, ens. Fotoresist beklee 'n spesiale posisie in die vervaardigingsproses van geïntegreerde stroombane. Hoe hoër die integrasie van die geïntegreerde stroombaan, hoe hoër die vereistes vir fotoresist. Halfgeleier-fotoresiste word verdeel in g-lyn, i-lyn fotoresiste, KrF, ArF fotoresiste en EUV fotoresiste, waaronder die prosesknooppunt van ArF fotoresist 7nm - 130nm is.

Ons O&O-sentrum het die vermoë om funksionele monomere, funksionele harse, fotosensitiseerders en ander fotoresistmateriale te ontwikkel, en kan volle onafhanklikheid van fotoresist-grondstowwe tot fotoresistprodukte en ondersteunende materiale bereik. Tans vorder die verifikasie van hoë-end fotoresiste soos ArF-droëproses, KrF-dikfilmgom en I-lyn bestendig, drie ArF-fotoresiste is geverifieer, wat verseker dat ons oplossings kan bied wat tred hou met die nuutste ontwikkelinge in die halfgeleierveld.

aansoek:

ArF-fotoresistmateriale is deurslaggewende sleutelmateriale in die veld van geïntegreerde stroombaanvervaardiging en kan gebruik word in geïntegreerde stroombaanvervaardigingsprosesse by 90nm~14nm en selfs 7nm-tegnologienodusse. Hulle word wyd gebruik in geïntegreerde stroombaanvervaardiging, gevorderde 3D-IC-verpakking, tradisionele IC-verpakking en -toetsing, en ander velde. Hulle word wyd gebruik in hoë-end-skyfievervaardiging, insluitend logika-skyfies, KI-skyfies, 5G-skyfies, grootkapasiteit-geheueskyfies en wolkrekenaarskyfies.

Dienste wat gelewer kan word:

kliënttoepassingscenario-analise, ooreenstemmende materiale, tegniese probleemoplossing.

Besigheids profiel:

Semixlab het 2 laboratoriums, 'n span kundiges met 20 jaar se materiaalervaring, met navorsing en ontwikkeling en produksie, toetsing en verifikasievermoëns.

Vinnige besonderhede:

1. hooftoepassing: Dit word wyd toegepas in velde soos geïntegreerde stroombaanvervaardiging, gevorderde 3D-IC-verpakking, en tradisionele IC-verpakking en -toetsing. En hoë-end-skyfievervaardiging, insluitend logika-skyfies, KI-skyfies, 5G-skyfies, grootkapasiteit-geheue en wolkrekenaarskyfies, ens.

2. Kernspesifikasieparameters:

Substraat Si (HMDS), filmdikte 1.25μm, voorbak 100 ℃ 60 sek, blootstelling 120 ℃ 90 sek, resolusie 7nm ~ 90nm, rakleeftyd 'n halfjaar, gestoor by lae temperatuur, nie meer as 20 ℃ nie.

Produkprestasie

Belangrikste toepassingsvelde

Ekologiese kettingverifikasie-endossement

193nm ArF-fotoresist is deur twee skyfievervaardigers, Storage en Logic, geverifieer, en is die eerste ArF-fotoresistproduk wat verifikasie in China slaag.

Tipiese aansoekproses

Grondstofvoorbereiding → Wafelskoonmaak → Skoonmaak van die fotoresistlaag (oplosmiddelskoonmaak of plasmaskoonmaak) → Voorbehandeling (suurskoonmaak en oppervlakaktivering) → Beheer van die dikte van die fotoresistlaag → Bedekking en filmvorming → Blootstelling en ontwikkeling → Etsbeskerming → Daaropvolgende verwerking (stroop, skoonmaak en uitgloeiing)

Deur prosesparameteroptimalisering het Semixlab-fotoresist deurbraakvordering gemaak op die gebied van binnelandse hoë-end fotoresist, geleidelik invoere in die halfgeleier-fotoresistmark vervang, en is suksesvol toegepas op die produksie en vervaardiging van LCD-, OLED- en ander vertoonpanele. Kontak asseblief ons tegniese ondersteuningspan as u gedetailleerde tegniese witboeke benodig of monstertoetse moet reël.

Semixlab Fotoresist Kern voordele

Voordele van produkprestasie

Hoë resolusie: maak die stroombaanpatroon op die skyfie meer verfyn, wat die integrasie en werkverrigting van die skyfie verbeter.

Hoë kontras en hoë transmissie: help om patroonoordrag tydens die litografieproses beter te bereik, die akkuraatheid en doeltreffendheid van litografie te verbeter, en sodoende die opbrengs en betroubaarheid van die skyfie te verbeter.

Tegnologiese navorsing en ontwikkelingsvoordele

Bereik volle onafhanklikheid van fotoresist-grondstowwe tot fotoresistprodukte en ondersteunende materiale.

ArF-fotoresist is gesertifiseer vir stroomafkliënte se geheueskyfie 50nm en logikaskyfie 55nm tegnologie-nodusprodukte.

Kapasiteitsuitbreiding en massaproduksie

Ons sal 'n jaarlikse produksieskaal van 25 ton 193nm (ArF droë en onderdompeling) fotoresistprodukte bereik, wat gebruik sal word om die industrialisering van fotoresist en ondersteunende materiale te ontwikkel om aan die behoeftes van die geïntegreerde stroombaanbedryf te voldoen.